熔融池中金屬液體含有大約8%～11%硅（Si），其余成分為鋁。

鋁硅鍍層會(huì )在鋼板表面形成明顯的鋁-鐵-硅合金層，鄭州不銹鋼鍍鈦公司，其特點(diǎn)是優(yōu)異的耐高溫性能，可以應用在一些高溫加工和高溫工作環(huán)境中。

鍍層厚度和重量的關(guān)系：鍍層厚度1μm≈3g/m2。

注3：熱鍍鋁硅鍍層鋼板及鋼帶，是貿易中提及的“鍍鋁板”的一個(gè)種類(lèi)。在歐標中鍍純鋁是需要單獨協(xié)議供貨的，而在JIS標準中則根據耐腐蝕和耐高溫等不同的應用做了分類(lèi)。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類(lèi)：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等)，金屬表面不銹鋼鍍鈦公司，氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN)，以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，真空不銹鋼鍍鈦公司，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，金屬不銹鋼鍍鈦公司，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(cháng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。